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研磨分散設(shè)備操作全攻略:從開機到關(guān)機的詳細步驟
 2025-03-24
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2022-05-12 產(chǎn)品展示/ Product display
 
 




實驗室研磨分散機是小型化物料處理設(shè)備,專為研發(fā)階段的樣品研磨、分散實驗設(shè)計。它通過高剪切或研磨組件,將少量物料(毫升至升級)細化至微米 / 納米級,精準控制粒徑,適配醫(yī)藥、材料、食品等領(lǐng)域的配方研發(fā)。設(shè)備體積小、操作便捷,支持多種容器適配,且易清潔防交叉污染,滿足實驗室小批量、高精度的處理需求。
 產(chǎn)品型號:GMD2000
產(chǎn)品型號:GMD2000 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家 更新時間:2025-10-30
更新時間:2025-10-30 訪  問  量:74
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               聯(lián)系電話:13338684951
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實驗室研磨分散機
GMD2000/4是一款應用于實驗室小試和中試的設(shè)備,集研磨、分散、均質(zhì)、乳化于一體,在多個領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應用。如化工行業(yè):白炭黑、環(huán)氧樹脂等超細研磨分散機;食品行業(yè):植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等;都可以獲得良好的研磨分散細化的效果。
GMD2000/4,電機功率:2.2kw,轉(zhuǎn)速高達14000rpm,處理在0-200L,設(shè)備體積較小,可直接放置實驗臺上操作。專為實驗室研發(fā),模擬生產(chǎn)流程,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同,且分散頭的種類及相應線速度也相同,中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機器型號升級過程中的風險降到zui低。


GMD2000/4是由膠體磨+分散機一體化而成的設(shè)備,先研磨后分散,效率高效果好。GMD2000系列研磨分散設(shè)備是公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化i頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

實驗室研磨分散機設(shè)備參數(shù)表:
| 研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 | 
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 | 
| GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 | 
| GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 | 
| GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 | 
| GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 | 
| GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 | 
| *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||

 
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